在光學(xué)干涉測(cè)量中，相位差測(cè)量?jī)x是重要設(shè)備之一。干涉儀通過(guò)分析兩束光的相位差來(lái)測(cè)量光學(xué)元件的表面形貌或折射率分布。相位差測(cè)量?jī)x能夠以納米級(jí)分辨率檢測(cè)相位變化，蘇州千宇光學(xué)自主研發(fā)的相位差測(cè)量?jī)x相位差測(cè)量重復(fù)性≤0.08nm，適用于高精度光學(xué)元件的檢測(cè)。例如，在望遠(yuǎn)鏡鏡面的加工中，相位差測(cè)量?jī)x可幫助檢測(cè)鏡面的面形誤差，確保成像清晰度。此外，在光學(xué)玻璃的均勻性測(cè)試中，相位差測(cè)量?jī)x也能通過(guò)干涉條紋分析，評(píng)估材料的折射率分布，為光學(xué)設(shè)計(jì)提供可靠數(shù)據(jù)。

Rth相位差測(cè)試儀專門用于測(cè)量光學(xué)材料在厚度方向的相位延遲特性，可精確表征材料的雙折射率分布。該系統(tǒng)基于傾斜入射橢偏技術(shù)，通過(guò)改變?nèi)肷浣嵌�，獲取樣品在不同深度下的相位差數(shù)據(jù)。在聚合物薄膜檢測(cè)中，Rth測(cè)試儀能夠評(píng)估拉伸工藝導(dǎo)致的分子取向差異，測(cè)量范圍可達(dá)±300nm。儀器采用高精度角度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，角度分辨率達(dá)0.001°，確保測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。在OLED顯示技術(shù)中，Rth測(cè)試儀可分析封裝層的應(yīng)力雙折射現(xiàn)象，為工藝優(yōu)化提供依據(jù)。當(dāng)前的自動(dòng)樣品臺(tái)設(shè)計(jì)支持大面積掃描，可繪制樣品的Rth值分布圖，直觀顯示材料均勻性