晶須生長的「隱患與對策」:純錫片在長期應(yīng)力下可能產(chǎn)生「錫晶須」(直徑1-5μm,長度可達1mm),導致電路短路。通過添加0.05%的鎳或銻,可抑制晶須生長速率90%以上,保障精密儀器(如衛(wèi)星導航系統(tǒng))10年以上無故障運行。 相圖原理的...
國際廠商 1. Alpha Assembly Solutions(美國,日立化成子公司) ? 產(chǎn)品定位:全球比較大的焊接材料供應(yīng)商之一,焊片產(chǎn)品線覆蓋全場景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢: ...
高壓閥門的「無火花密封」:在石油化工領(lǐng)域,錫片(純度99.9%)制成的密封墊片可承受20MPa壓力與150℃高溫,其莫氏硬度只有1.5(低于鋼鐵),在螺栓緊固時能填滿0.05mm以下的金屬表面缺陷,且摩擦時不產(chǎn)生火花(燃點>500℃),杜絕易燃易爆環(huán)境中的...
晶粒尺寸的「強度密碼」:通過控制軋制溫度(150℃以下),錫片的晶粒尺寸可細化至50μm以下,使抗拉強度從20MPa提升至50MPa,這種「細晶強化」讓超薄錫片(0.05mm)能承受100g的拉力而不斷裂,滿足柔性電路板的彎曲需求(彎折半徑<5mm)。 ...
無鉛錫片是指不含鉛(Pb)或鉛含量低于歐盟RoHS指令(≤0.1%)的錫基合金材料,通過添加銀(Ag)、銅(Cu)、鉍(Bi)、鎳(Ni)等元素,替代傳統(tǒng)含鉛焊料,兼具環(huán)保性與可靠焊接性能,是現(xiàn)代電子制造業(yè)的主流材料。 二、主要成分與典...
操作細節(jié)與工藝優(yōu)化 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 預熱步驟 必須執(zhí)行階梯式預熱(如分低溫100℃→中溫150℃→高溫200℃),確保板材水分揮發(fā)和助焊劑激發(fā),減少爆板風險。 可簡化預熱(甚至不預熱),直接進入焊接溫度。 焊點...
焊接工藝差異 無鉛錫片 有鉛錫片 焊接溫度 需更高溫度(240℃以上),可能導致PCB板材(如FR-4)受熱變形、元件引腳氧化加劇,需優(yōu)化設(shè)備溫控精度(±5℃以內(nèi))。 焊接溫度低(210℃~230℃),對設(shè)備和工藝要求較低,兼容性強。 ...
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點,重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和...
光刻膠的納米級性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長)的轟擊,避免散射導致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級結(jié)構(gòu)對膠層中的顆粒或化學不...
作為中國半導體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國內(nèi)半導體...
耐腐蝕性的優(yōu)化與影響因素 1. 純度與合金成分的影響 ? 純錫:耐腐蝕性好,尤其適合食品接觸或高純度要求場景。 ? 錫合金:添加鉛、銅、銀等元素可能輕微影響耐腐蝕性(如Sn-Pb焊錫在潮濕環(huán)境中腐...
廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,確保芯片線路的精細刻畫; 納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu); LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮...
納米電子器件制造 ? 半導體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。 ? 二維材料器件:在石墨烯、二...
工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強感光膠附著力。 ? 方法: ? 化學清洗(硫酸/雙氧水、去離子水); ? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮...
產(chǎn)品特點:耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無白點、無沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細網(wǎng)點和線條;感光度高,曝光時間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版...
技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)重構(gòu)的臨界點 光刻膠技術(shù)的加速突破正在推動芯片制造行業(yè)進入“材料定義制程”的新階段。中國在政策支持和資本推動下,已在KrF/ArF領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)局部突破,但EUV等領(lǐng)域仍需5-10年才能實現(xiàn)替代。未來3-5年,EUV光刻膠研發(fā)、...
吉田半導體助力區(qū)域經(jīng)濟,構(gòu)建半導體材料生態(tài)圈,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導體聯(lián)合上下游資源,推動東莞松山湖半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。 作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導體聯(lián)合光刻機制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,促...
憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,吉田半導體的材料遠銷全球,并與多家跨國企業(yè)建立長期合作。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲能等清潔能源領(lǐng)域,助力客戶實現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過導入國際標準認證(如 ISO14001 環(huán)境管理體系),進一步強化了在...
關(guān)鍵工藝流程 涂布與前烘: ? 旋涂或噴涂負性膠,厚度可達1-100μm(遠厚于正性膠),前烘溫度60-90℃,去除溶劑并增強附著力。 曝光: ? 光源以**汞燈G線(436nm)**為主...
吉田半導體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導體、Mini LED)的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料...
廣東吉田半導體材料有限公司 ? 產(chǎn)品定位:國家高新技術(shù)企業(yè),專注半導體材料23年,焊片(錫基合金焊片)為主要產(chǎn)品之一,適配芯片封裝、功率模塊等高級場景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢: ? 進口原材料(美、德、日...
光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域 光刻膠是微電子制造的主要材料,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域: 半導體制造 ? 功能:在晶圓表面形成微細電路圖案,作為蝕刻或離子注入的掩膜。 ? 分類: ...
助焊劑與潤濕性處理不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 潤濕性問題 純錫表面張力大(約500 mN/m),潤濕性差,焊點易出現(xiàn)不規(guī)則邊緣或漏焊。 錫鉛合金表面張力?。s450 mN/m),熔融后自然鋪展性好,焊點飽滿圓潤。 助焊劑...
定義與特性 負性光刻膠是一種在曝光后,未曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,其主要特點是耐蝕刻性強、工藝簡單、成本低,但分辨率較低(通常≥1μm),主要應(yīng)用于對精度要求相對較低、需...
廣東吉田半導體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是一家專注于半導體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元,擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗,產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等,服務(wù)全球市場并與多家...
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠:JT-3001 型號,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年。適...
人才與生態(tài):跨學科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學、半導體工藝、分析檢測等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè),且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導師制”培養(yǎng)人才,...
不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片...