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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導體器件制造。 其他光刻膠 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應用場景。 吉田半導體...

技術研發(fā)：從配方到工藝的經(jīng)驗壁壘 配方設計的“黑箱效應” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合，需通過數(shù)萬次實驗優(yōu)化。例如，ArF光刻膠需在193nm波長下實現(xiàn)0.1μm分辨率，其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機性能。日本企業(yè)通過數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫，國內(nèi)企業(yè)短期內(nèi)難以突破。 工藝控制的極限挑戰(zhàn) 光刻膠生產(chǎn)需在百級超凈車間進行，金屬離子含量需控制在1ppb以下。國內(nèi)企業(yè)在“吸附—重結晶—過濾—干燥”耦合工藝上存在技術短板，導致產(chǎn)品批次一致性差。例如，恒坤新材的KrF光刻膠雖通過12英寸產(chǎn)線驗證，但量產(chǎn)良率較日本同類...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗證，良率達 98% 以上，生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求，為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。 無鹵無鉛錫膏廠家吉田，RoHS 認證，為新能源領域提供服務！深圳網(wǎng)版光刻膠供應商 廣東...

? 化學反應： ? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解； ? 負性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結構。 5. 顯影（Development） ? 顯影液： ? 正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH），溶解曝光區(qū)域； ? 負性膠：有機溶劑（如二甲苯、醋酸丁酯），溶解未曝光區(qū)域。 ? 方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導體），時間30秒-2分鐘，需控制顯影液濃度和溫度。 ...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。 負性光刻膠 SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。 正性光刻膠 松山湖半導體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)！廣西低溫光...

吉田半導體 SU-3 負性光刻膠：國產(chǎn)技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性，已應用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發(fā)經(jīng)驗，全自動化生產(chǎn)保障品質！東莞負性光刻膠價格...

? 化學反應： ? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解； ? 負性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結構。 5. 顯影（Development） ? 顯影液： ? 正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH），溶解曝光區(qū)域； ? 負性膠：有機溶劑（如二甲苯、醋酸丁酯），溶解未曝光區(qū)域。 ? 方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導體），時間30秒-2分鐘，需控制顯影液濃度和溫度。 ...

工藝流程 ? 目的：去除基板表面油污、顆粒，增強感光膠附著力。 ? 方法： ? 化學清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）； ? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板用粗化處理）。 涂布（Coating） ? 方式： ? 旋涂：半導體/顯示領域，厚度控制精確（納米至微米級），轉速500-5000rpm； ? 噴涂/輥涂：PCB/MEMS領域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級，如負性膠可達100μm）。 ...

廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等領域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。 公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗積累，構建了完整的技術研發(fā)體系，擁有全自動化生產(chǎn)設備及多項技術。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料，并通過 ISO9001:2008 質量管理體系認證，生產(chǎn)流程嚴格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標準，確保...

綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟 公司采用水性光刻膠技術，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標準。同時，其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn)，通過膜分離+精餾技術實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機物）超100噸。 低碳供應鏈管理 吉田半導體與上游供應商合作開發(fā)生物基樹脂，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領域獲得客戶青睞，相關訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。 吉田技術研發(fā)與生產(chǎn)能力。吉林油墨光刻膠工廠 技術優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細分領域突...

廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關鍵支持，確保芯片線路的精細刻畫； 納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細的微納結構； LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求，保障面板成像質量。 在電子焊接方面，半導體錫膏與焊片性能，能實現(xiàn)可靠的電氣連接，廣泛應用于各類電子設備組裝。 靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關鍵作用，通過精細控制材料沉積，為半導體器件制造提供高質量的薄膜材料。憑借出色品質，遠銷全球，深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。 光刻膠是有什么東西？云...

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體，實現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作，產(chǎn)品覆蓋智能手機、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性，推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進程。 負性光刻膠生產(chǎn)廠家。福州激光光刻膠 ? 正性光刻膠 ? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫...

納米制造與表面工程 ? 納米結構模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復制微流控芯片或柔性顯示基板。 ? 表面功能化：在基底表面構建納米級粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學圖案（引導細胞定向生長的納米溝槽），用于生物醫(yī)學或能源材料（如電池電極的納米陣列結構）。 量子技術與精密測量 ? 超導量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過光刻膠定義納米級約瑟夫森結陣列，構建量子電路。 ? 納米傳感器：制備納米級懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金...

關鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調整），需均勻無氣泡（旋涂轉速500-5000rpm）。 前烘（Soft Bake）： ? 加熱（80-120℃）去除溶劑，固化膠膜，增強附著力（避免顯影時邊緣剝離）。 曝光： ? 光源匹配： ? G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬，如PCB、LCD）。 ? DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準分子激光（用于28nm-1...

吉田半導體 SU-3 負性光刻膠：國產(chǎn)技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性，已應用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 松山湖半導體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!蘇州LCD光刻膠價格 正性光刻...

行業(yè)地位與競爭格局 1. 國際對比 ? 技術定位：聚焦細分市場（如納米壓印、LCD），而國際巨頭（如JSR、東京應化）主導半導體光刻膠（ArF、EUV）。 ? 成本優(yōu)勢：原材料自主化率超80%，成本低20%；國際巨頭依賴進口原材料，成本較高。 ? 客戶響應：48小時內(nèi)提供定制化解決方案，認證周期為國際巨頭的1/5。 2. 國內(nèi)競爭 國內(nèi)光刻膠市場仍由日本企業(yè)壟斷（全球市占率超60%），但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領域具備替代進口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業(yè)相比，吉田在細分市...

市場與客戶優(yōu)勢：全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網(wǎng)絡 產(chǎn)品遠銷全球，與三星、LG、京東方等世界500強企業(yè)建立長期合作，在東南亞、北美市場市占率超15%。 區(qū)域市場深耕 依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，與華為、OPPO等本土企業(yè)合作，在消費電子、汽車電子領域快速響應客戶需求。 產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢：原材料與設備協(xié)同 主要原材料自主化 公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂、光引發(fā)劑，降低對進口依賴，成本較國際競品低20%。 設備與工藝協(xié)同 與國內(nèi)涂膠顯影設備廠商合作，開發(fā)適配國產(chǎn)...

國產(chǎn)替代進程加速 日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后，國內(nèi)企業(yè)加速驗證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單，二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610，已通過中芯國際14nm工藝驗證。預計到2025年，國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。 原材料國產(chǎn)化突破 光刻膠樹脂占成本50%-60%，八億時空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預計2025年實現(xiàn)百噸級量產(chǎn)，其產(chǎn)品純度達到99.999%，金屬雜質含量低于1ppb。怡達股份作為全球電子級PM溶劑前段（市占率超...

廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等領域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。 公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗積累，構建了完整的技術研發(fā)體系，擁有全自動化生產(chǎn)設備及多項技術。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料，并通過 ISO9001:2008 質量管理體系認證，生產(chǎn)流程嚴格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標準，確保...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細分場景： ? 邏輯/存儲芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14nm以下先進制程的ArF浸沒式光刻膠（分辨率≤45nm），以及極紫外（EUV）光刻膠（目標7nm以下，研發(fā)中）。 ? 功率半導體（如IGBT）：使用厚膜光刻膠（膜厚5-50μm），滿足深溝槽刻蝕需求。 ? MEMS傳感器：通過高深寬比光刻膠（如SU-8）實現(xiàn)微米級結構（如加速度計、陀螺儀的懸臂梁）。 ...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導體光刻膠業(yè)務營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術攻關。 2. 價格競爭的“雙重擠壓” 國內(nèi)PCB光刻膠價格較國際低30%，但半導體光刻膠因性能差距，價格為進口產(chǎn)品的70%，而成本卻高出20%。例如，國產(chǎn)ArF光刻膠售價約150萬元/噸，而日本同類產(chǎn)品為120萬元/噸，且性能更優(yōu)。 突破路徑與未來展望 原材料國產(chǎn)化攻堅：聚焦樹脂單體合成、光酸純化等關鍵環(huán)節(jié)，推動八億時空、...

全品類覆蓋 吉田半導體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領域需求，技術布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商。 關鍵技術突破 納米壓印技術：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達 250℃，支持納米級精度圖案復制，適用于第三代半導體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領域，技術指標接近國際先進水平。 水性環(huán)保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 標準，環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。 厚膜工藝...

客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商，吉田半導體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術響應，降低客戶供應鏈風險。 性價比優(yōu)勢 國產(chǎn)光刻膠價格普遍低于進口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導體通過規(guī)?；a(chǎn)和供應鏈優(yōu)化進一步壓縮成本，同時保持性能對標國際品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產(chǎn)替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢，吉田半導體作為 “專精特...

吉田半導體獲評 "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術標準，以技術創(chuàng)新與標準化生產(chǎn)為，吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號，樹立行業(yè)。 憑借在光刻膠領域的表現(xiàn)，吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術規(guī)范》等行業(yè)標準，推動國產(chǎn)材料標準化進程。未來，吉田半導體將繼續(xù)以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景，深化技術研發(fā)與市場拓展，為全球半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。半導體芯片制造，用于精細電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度。常州阻焊油墨光刻膠價格 憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富...

吉田半導體 SU-3 負性光刻膠：國產(chǎn)技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性，已應用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 廣東光刻膠廠家哪家好？青海激光光刻膠工廠 廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。 半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。 耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中，比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或...

客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商，吉田半導體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術響應，降低客戶供應鏈風險。 性價比優(yōu)勢 國產(chǎn)光刻膠價格普遍低于進口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導體通過規(guī)?；a(chǎn)和供應鏈優(yōu)化進一步壓縮成本，同時保持性能對標國際品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產(chǎn)替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢，吉田半導體作為 “專精特...

國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設備采購補貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術獲中芯國際百萬級訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達90%，光刻膠是重點突破方向。 研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設立20億元經(jīng)費，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%，并啟動EUV光刻膠預研。 LCD 光刻膠供應商哪家好？吉田半導體高分辨率 + 低 VOC 配方！遼寧LED光刻膠品牌...

以 15% 年研發(fā)投入為驅動，吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術。 面對極紫外光刻技術挑戰(zhàn)，吉田半導體與中科院合作開發(fā)化學放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標上取得階段性進展。同時，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對標日本王子控股技術，探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術儲備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國在下一代光刻技術中占據(jù)重要地位。光刻膠解決方案找吉田，ISO 認證 +8S 管理，良率達 98%!中山厚膜光刻膠價格 納米壓印光刻膠 微納光學器件制造：制作衍射光學元件、微...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。 ? 陣列基板（Array）： ? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。 OLED顯示（柔性/剛性） ? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結構，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）。 ...