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為本實用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖，以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖，在本實用新型其二較佳實施例中，開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，例如：圖4中所示的w...

操作人員的手會與連接構(gòu)件11接觸，海綿層12可以將操作人員手上的水分進行吸收，避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時候，會因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況，有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進行；然后，通過連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺之間形成一插槽，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機構(gòu)，壓緊塊位于插槽中，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系...

本實用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來，人們對半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時，對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制...

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微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放，并產(chǎn)出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進的科研生產(chǎn)和檢測設(shè)備，專業(yè)的研發(fā)團隊。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能環(huán)境友好化學(xué)品的研究開發(fā)；并根據(jù)客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊伍為依托，對...

蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達到高的蝕刻質(zhì)量的特性；同時，它的溶銅量大；酸性蝕刻液也較容易再生與回收，從而減少污染。有研究表明，酸性氯化銅...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人：丁 先 生 公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號分機號： 歡迎光大顧客朋友來電咨詢二甘醇，同時也歡迎各位來我司參觀交流！蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人：丁 先 生 公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號歡迎光大...

Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位，此時蝕刻速率慢，即應(yīng)考慮蝕刻液的更新。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量，多以蝕刻時間和蝕刻質(zhì)量來確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時，還伴有一些副反應(yīng)，就是CuCl2和FeCl3的水解反應(yīng)：FeCl3＋3H2...

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廢蝕刻液經(jīng)過廢蝕刻液銅分離循環(huán)機構(gòu)后再經(jīng)組分調(diào)配可供蝕刻機循環(huán)使用；氨水洗廢液經(jīng)過氨水洗廢液銅分離循環(huán)機構(gòu)后可供蝕刻機循環(huán)使用；反萃劑經(jīng)過電解提銅循環(huán)機構(gòu)電解分離銅后可再進入反萃循環(huán)機構(gòu)中循環(huán)使用，該實用新型在整個處理過程物料實現(xiàn)閉路循環(huán)，沒有廢水廢物排出，能...

緩沖氧化物蝕刻液（BOE）又稱為緩沖氧化物蝕刻劑，是由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。作為一種濕式蝕刻劑，緩沖氧化物蝕刻液具有速率快、蝕刻容易控制、溶解能力高等特點。緩沖氧化物蝕刻液主要用于蝕刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜，下...

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在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到比較好的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需...

多級逆流萃取性能優(yōu)勢：1、新型設(shè)備采用多級連續(xù)萃取，效率離萃取效果好，處理能力大；2、設(shè)備運行成本低，功耗只有傳統(tǒng)設(shè)備的1/10~1/3，萃取劑的損耗低；3、傳質(zhì)效率高，級效率高，同等處理量下，所需設(shè)備臺數(shù)要比傳統(tǒng)的設(shè)備臺數(shù)少；4、便于管理：開停車方便，停車后...

蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻，其中，濕蝕刻是采用化學(xué)試劑，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達到蝕刻的目的，薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft～lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物...

微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放，并產(chǎn)出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理...

微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放，并產(chǎn)出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理...

微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無論...

通常用于金屬層蝕刻的銅酸蝕刻溶液主要成分為過氧化氫和一些添加劑；過氧化氫用于對金屬進行氧化，而添加劑則主要將氧化物酸化成離子態(tài)，使其溶解于溶液中，并且維持蝕刻特性要求。由于過氧化氫同時具有氧化性和還原性，其可以將銅氧化，也可以被金屬離子催化發(fā)生歧化分解反應(yīng)，生...

微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放，并產(chǎn)出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理...

緩沖氧化物蝕刻劑(BOE)是一種用于微細加工的液體腐蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化銨(NH4F)和氫氟酸(HF)等緩沖液的混合物。濃縮的HF蝕刻二氧化硅的速度太快，不能很好地進行工藝控制，同時也會剝落用于光刻...

蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是：，；酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達到高的蝕刻質(zhì)量的特性；同時，它的溶銅量大；酸性蝕刻液也較容易再生與回收，從而減少污染。有研究表明，酸性...