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酸性蝕刻液是什么？對于蝕刻液用法的理解,我們可以用個比較通俗的說法，那就是使用具有腐蝕性的一些化學(xué)材料對某種物品進(jìn)行腐蝕，將不需要的部分腐蝕掉，從而將其雕刻成所需要的目標(biāo)物品的過程。那這個具有腐蝕性的化學(xué)材料，就稱為蝕刻液了。那專業(yè)的蝕刻液解釋又是什么呢？蝕刻...

蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機(jī)理是酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性；同時，它的溶銅量大；酸性蝕刻液也較容易再生與回收，從而減少污染。有研究表明，酸性氯化銅...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進(jìn)的科研生產(chǎn)和檢測設(shè)備，專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能、環(huán)境友好化學(xué)品的研究開發(fā)；并根據(jù)客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊伍為依托，...

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蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻，其中，濕蝕刻是采用化學(xué)試劑，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的，薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft～lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物...

微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無論...

緩沖氧化物蝕刻劑(BOE)是一種用于微細(xì)加工的液體腐蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化銨(NH4F)和氫氟酸(HF)等緩沖液的混合物。濃縮的HF蝕刻二氧化硅的速度太快，不能很好地進(jìn)行工藝控制，同時也會剝落用于光刻...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進(jìn)的科研生產(chǎn)和檢測設(shè)備，專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能環(huán)境友好化學(xué)品的研究開發(fā)；并根據(jù)客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊伍為依托，對...

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酸性蝕刻是制造印刷電路板過程中必不可少的工序，酸性蝕刻工序利用酸性蝕刻液在蝕刻機(jī)內(nèi)完成。酸性蝕刻液包括酸性蝕刻子液和酸性蝕刻母液。通過再生循環(huán)方法提取銅回收廢液繼續(xù)使用，可以明顯減少環(huán)境的污染，電解反應(yīng)是通過陽極的氧化作用使一價銅變?yōu)槎r銅，使得蝕刻液...

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異丙醇相關(guān)說明異丙醇名片異丙醇結(jié)構(gòu)式異丙醇，有機(jī)化合物，別名二甲基甲醇、2-丙醇，行業(yè)中也作IPA。它是正丙醇的同分異構(gòu)體。無色透明液體，有似乙醇和**混合物的氣味。溶于水、醇、醚、苯、氯仿等多數(shù)有機(jī)溶劑。異丙醇是重要的化工產(chǎn)品和原料。主要用于制藥、化...

緩沖氧化物蝕刻液（BOE）又稱為緩沖氧化物蝕刻劑，是由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。作為一種濕式蝕刻劑，緩沖氧化物蝕刻液具有速率快、蝕刻容易控制、溶解能力高等特點(diǎn)。緩沖氧化物蝕刻液主要用于蝕刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜，下...

對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。實施例一，請...

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并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?，F(xiàn)象，確實達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50，...

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酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來越大，發(fā)掘的污染物種類也越來越多，對環(huán)境造成巨大的危害，此類問題也成為社會的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生，我們需要對酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機(jī)電激發(fā)光顯示器，多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料，但是因為無適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***...

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微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無論...

蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。濕蝕刻就是利用合適的化學(xué)溶液腐蝕去除材質(zhì)上未被光阻覆蓋（感光膜）的部分，達(dá)到一定的雕刻深度。蝕刻精度...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機(jī)...

所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為，所述酸的濃...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號...

步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯...

以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41，以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42，其中該***...