半導(dǎo)體退火爐的應(yīng)用領(lǐng)域:1.SiC材料晶體生長SiC是一種具有高熱導(dǎo)率、高擊穿電壓、高飽和電子速度等優(yōu)良特性的寬禁帶半導(dǎo)體材料。在SiC材料...
?快速熱處理(Rapid Thermal Processing,簡稱?RTP)是一種在幾秒或更短的時間內(nèi)將材料加熱到高溫(如1000℃左右)...
RTP快速退火爐是一種常用的熱處理設(shè)備,其工作原理是通過高溫加熱和快速冷卻的方式,對材料進行退火處理,達到改善材料性能和組織結(jié)構(gòu)的目的。RT...
全自動雙腔RTP快速退火爐適用于4-12英寸硅片,雙腔結(jié)構(gòu)設(shè)計以及增加晶圓機器手,單次可處理兩片晶圓,全自動上下料有效提高生產(chǎn)效率。半自動R...
愿景:致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理與檢測整體解決方案 價值觀:誠信 感恩 創(chuàng)新 專業(yè) 擔(dān)當(dāng) 成長 同心 拼搏 晟鼎精密致力于提供表面性能處理以及檢測整體解決方案,集研發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)、銷售及產(chǎn)業(yè)鏈服務(wù)為一體的國家高新技術(shù)企業(yè)。 是接觸角國家標(biāo)準(zhǔn) (GB/T 30693-2014) 參與制定者,擁有行業(yè)內(nèi)等離子實驗室,與華南理工大學(xué)創(chuàng)建等離子技術(shù)聯(lián)合實驗室,并擁有10多位行業(yè)技術(shù)專業(yè)人士。團隊成員以多年從事材料表面、電子電氣、工業(yè)自動化等領(lǐng)域研發(fā)的博士、碩士、學(xué)士為主,本科學(xué)歷以上占比50%。 是華為、小米、OPPO、京東方、富士康、比亞迪、藍思、伯恩、兆馳、三安光電、清華大學(xué)北京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)等企業(yè)及科研院校長期合作伙伴。