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  • 浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),以促進細胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架,細胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持。德國技術(shù)基因:融合精密光學(xué)與自動化控制,確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長壽命。浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸...

  • 安徽PSP光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
    安徽PSP光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

    Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,推動光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效...

  • 遼寧德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
    遼寧德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

    SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計降低實驗室設(shè)備投入,光束引擎通過壓電驅(qū)動實現(xiàn)高速掃描(單次寫入400 μm區(qū)域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證。其無掩模特性進一步減少材料浪費,為中小型實驗室提供經(jīng)濟解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并br...

  • 吉林德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化
    吉林德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

    在微流體領(lǐng)域,Polos系列光刻機通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞球浸潤行為,為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模技術(shù)優(yōu)勢:摒棄傳統(tǒng)掩模,圖案實時調(diào)整,研發(fā)成本降低 70%,小批量生產(chǎn)經(jīng)濟性突出。吉林德國POLOS光刻機讓你...

  • 北京德國BEAM光刻機分辨率1.5微米
    北京德國BEAM光刻機分辨率1.5微米

    某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,使材料表面接觸角達 165°,滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,被用于微流控芯片的液滴定向輸運,液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 ...

  • 廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    在微流體領(lǐng)域,Polos系列光刻機通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞球浸潤行為,為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。Polos-BESM:基礎(chǔ)款高性價比,適合高校實驗室基礎(chǔ)微納加工。廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英...

  • BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
    BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

    植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導(dǎo)電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機...

  • 河南德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    河南德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    某集成電路實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于相變材料的存算一體芯片。其激光直寫技術(shù)在二氧化硅基底上實現(xiàn)了 100nm 間距的電極陣列,器件的讀寫速度達 10ns,較傳統(tǒng) SRAM 提升 100 倍。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料,芯片實現(xiàn)了計算與存儲的原位融合,能效比達 1TOPS/W,較傳統(tǒng)馮?諾依曼架構(gòu)提升 1000 倍。該技術(shù)被用于邊緣計算設(shè)備,使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms,相關(guān)芯片已進入小批量試產(chǎn)階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件...

  • 安徽POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長
    安徽POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長

    某半導(dǎo)體實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)氮化鎵(GaN)基高電子遷移率晶體管(HEMT)。其激光直寫技術(shù)在藍寶石襯底上實現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案,器件的電子遷移率達 2000 cm2/(V?s),擊穿電壓提升至 1200V,遠超商用產(chǎn)品水平。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一...

  • 江蘇PSP光刻機可以自動聚焦波長
    江蘇PSP光刻機可以自動聚焦波長

    在tumor轉(zhuǎn)移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術(shù),在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu),其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團隊通過軟件實時調(diào)整通道曲率和細胞外基質(zhì)密度,成功復(fù)現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化(EMT)過程,相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā)。快速自動對焦:閉環(huán)對焦...

  • 河北德國BEAM光刻機分辨率1.5微米
    河北德國BEAM光刻機分辨率1.5微米

    在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),助力團隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性?;诖耍蒲袌F隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品,為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ)。Polos-BESM 光刻機:無掩模激光技術(shù),成本降低 50%,任意圖案輕松輸入,適配實驗室微納加工。河北德國BEAM光刻機分辨率...

  • 上海德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米
    上海德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米

    一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性,讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,設(shè)計并制作出獨特的電路結(jié)構(gòu)。通過 Polos 光刻機precise的光刻,成功制造出的壓力傳感器,靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,為可穿戴設(shè)備、智能機器人等領(lǐng)域帶來新的發(fā)展機遇。未來技術(shù)儲備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。上海德國桌面無掩模光刻機M...

  • 德國POLOS光刻機MAX層厚可達到10微米
    德國POLOS光刻機MAX層厚可達到10微米

    某材料科學(xué)研究中心在探索新型納米復(fù)合材料的性能時,需要在材料表面構(gòu)建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現(xiàn)這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術(shù),在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結(jié)構(gòu)。經(jīng)過測試發(fā)現(xiàn),帶有特定圖案的納米復(fù)合材料,其電學(xué)、光學(xué)和力學(xué)性能發(fā)生了remarkable改變。例如,一種原本光學(xué)性能普通的納米材料,在經(jīng)過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發(fā)新型光電器件和光學(xué)傳感器提供了新的材料選擇和設(shè)計思路 。實時觀測系統(tǒng):120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,實現(xiàn)加工過程動態(tài)監(jiān)控。德國POLOS光刻機MAX...

  • 遼寧BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米
    遼寧BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米

    在微流體研究領(lǐng)域,德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),打破傳統(tǒng)光刻的局限,無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計,快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機,能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,模擬人體環(huán)境,讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準確性。同時,在細胞培養(yǎng)實驗中,該光刻機制作的微流體芯片,為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,助力細胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,正推動微流體研究不斷向前。Polos-BESM 光...

  • 重慶桌面無掩模光刻機
    重慶桌面無掩模光刻機

    無掩模激光光刻:科研效率的revolution性提升!Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時間。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)支持5英寸晶圓的高精度加工,特別適合實驗室快速原型開發(fā)。閉環(huán)自動對焦系統(tǒng)(1秒完成)和半自動多層對準功能,remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機...

  • 重慶BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米
    重慶BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米

    植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導(dǎo)電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機...

  • 河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
    河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

    無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。緊湊桌面設(shè)計:Polos-BESM系統(tǒng)only占桌面空間,適合實驗室高效原型開發(fā)。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化在科研領(lǐng)域,設(shè)備的先進程度...

  • 北京桌面無掩模光刻機
    北京桌面無掩模光刻機

    無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,可用于創(chuàng)建亞微米級特征,并促進電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,例如以下領(lǐng)域:醫(yī)療(包括微流體)、半導(dǎo)體、電子、生物技術(shù)和生命科學(xué)、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達到 3.3606 億美元,預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,復(fù)合年增長率為 6.90%。由于對 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,預(yù)計未來...

  • 江蘇PSP光刻機MAX層厚可達到10微米
    江蘇PSP光刻機MAX層厚可達到10微米

    SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計降低實驗室設(shè)備投入,光束引擎通過壓電驅(qū)動實現(xiàn)高速掃描(單次寫入400 μm區(qū)域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證。其無掩模特性進一步減少材料浪費,為中小型實驗室提供經(jīng)濟解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并br...

  • 德國BEAM光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
    德國BEAM光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

    微流體芯片制造的core工具!Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)(如Nanoscribe的2PP工藝),用戶可擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,為微型機器人及光學(xué)超材料提供多維度解決方案37。其與Lab14集團的協(xié)同合作,進一步推動工業(yè)級光學(xué)封裝技術(shù)創(chuàng)新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合...

  • 湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長
    湖北德國桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

    某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s,轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡,該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運,操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(質(zhì)量 < 1μg)還支持在活細胞表面進行納米級手術(shù),相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且...

  • 上海德國PSP-POLOS光刻機可以自動聚焦波長
    上海德國PSP-POLOS光刻機可以自動聚焦波長

    Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,推動光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效...

  • 河北德國BEAM光刻機光源波長405微米
    河北德國BEAM光刻機光源波長405微米

    針對植入式醫(yī)療設(shè)備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術(shù)避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,相關(guān)技術(shù)已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件...

  • 遼寧BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化
    遼寧BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

    低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室...

  • 四川光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    四川光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    Polos光刻機與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術(shù)結(jié)合,可定制激光輪廓以優(yōu)化能量分布,減少材料蒸發(fā)和飛濺,提升金屬3D打印效率7。這種跨領(lǐng)域技術(shù)融合為工業(yè)級微納制造(如光學(xué)元件封裝)提供新思路,推動智能制造向高精度、低能耗方向發(fā)展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠,通過優(yōu)化曝光參數(shù)(如能量密度與聚焦深度)實現(xiàn)不同材料的高質(zhì)量加工。例如,使用AZ5214E時,可調(diào)節(jié)光束強度以減少側(cè)壁粗糙度,提升微結(jié)構(gòu)的功能性。這一特性使其在生物相容性器件(如仿生傳感器)中表現(xiàn)outstanding26。POLOS μ:超緊湊設(shè)計,納米級精度專攻微流控與細胞芯片。四川光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英...

  • 河南PSP光刻機
    河南PSP光刻機

    針對植入式醫(yī)療設(shè)備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術(shù)避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,相關(guān)技術(shù)已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件...

  • 黑龍江德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    黑龍江德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,可用于創(chuàng)建亞微米級特征,并促進電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,例如以下領(lǐng)域:醫(yī)療(包括微流體)、半導(dǎo)體、電子、生物技術(shù)和生命科學(xué)、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達到 3.3606 億美元,預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,復(fù)合年增長率為 6.90%。由于對 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,預(yù)計未來...

  • 四川PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
    四川PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

    某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s,轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡,該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運,操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(質(zhì)量 < 1μg)還支持在活細胞表面進行納米級手術(shù),相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且...

  • 廣東POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米
    廣東POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

    低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室...

  • 陜西PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化
    陜西PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化

    細胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,難以滿足個性化需求。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導(dǎo)入,某干細胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,適配不同分化階段的細胞黏附需求。實驗顯示,使用該支架的神經(jīng)細胞軸突生長速度提升 30%,為神經(jīng)再生機制研究提供了高效工具,相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產(chǎn)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機...

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