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普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機械內(nèi)部結(jié)構(gòu)之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機械前方的轉(zhuǎn)盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤則顯示一個四年周期，并且和顯示周期為235個朔望月的默冬章相關(guān)，這和19個回歸...

主要流程光復印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時掩模與晶片間相對關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復印面積大、復印精度好、曝光設備簡單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應力。A.每使用1500-2000小時維護保養(yǎng)應執(zhí)行項目:1.滑潤油脂吐出油量及壓力檢知功能測試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測試檢查與必要調(diào)整....

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，標準鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標準鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面，所以在實際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標準鏡頭的畫面效果...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設計作35m...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長極紫外光源的半導體制造**設備，可將芯片制程推進至7納米、5納米及更先進節(jié)點。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品，突破光學衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國工程院***發(fā)布的"...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術(shù)發(fā)展到應用電子束、...

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。極紫外光刻（英語：Extrem...

2.該機械有一個刻上至少2000個字母的蓋子，因此安提基特拉機械研究計劃的人員經(jīng)常認為這是儀器說明書。這**是為了便于攜帶和個人使用。3.“說明書”的存在**該裝置是科學家和工程師設計作為非專業(yè)的旅行者使用。（記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊）該機械不太...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標準鏡頭拍攝的要小。當拍攝較近的景物時，會產(chǎn)生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機部件● 測量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測量范圍分類：1.微壓表（指儀表測量上限值小于0.1MPa的儀表）...

集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術(shù)發(fā)展到應用電子束、...

安提基特拉機械以其小型化和其部分裝置的復雜性可與19世紀機械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認為它可多達72個有正三角形齒的齒輪。當借由一個曲柄輸入一個日期，該機械就可算出日月或行星等其他天**置。因為該機械是以地球表面觀測天球者為參考座標，...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標準鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生，此后經(jīng)種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

③縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率。④采用精密自動調(diào)焦技術(shù)，避免高溫工藝引起的晶片變形對成像質(zhì)量的影響。⑤采用原版自動選擇機構(gòu)（版庫），不但有利于成品率的提高，而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術(shù)原理這種系統(tǒng)...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標準鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生，此后經(jīng)種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當小的一部分...

準分子光刻技術(shù)作為當前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷（板）固定擋料銷（板）是在模具內(nèi)固定不動的擋料銷（板）。(參閱“擋料銷（板）”)。36、卸件器卸件器是從凸模外表面卸脫工（序）...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當小的一部分...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運用附件時， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

1：可用機電式驅(qū)動器或液壓缸作為驅(qū)動動力。2：快速、精確地對卷材進行定位，使用的卷材寬度可達1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動桿的設計。4：耐用的結(jié)構(gòu)設計可長時間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對中器提高設置和卷材線性速度。6：...

英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設計，我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...