用長焦頭拍攝遠處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡汀R虼?,用長焦頭拍攝遠處景物時,比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對象。此外,攝影時可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度;若是黑白攝影,還...
用長焦頭拍攝遠處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此,用長焦頭拍攝遠處景物時,比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對象。此外,攝影時可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度;若是黑白攝影,還...
2006年時,萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型,引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪,這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...
按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為:直徑1in,32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是,由于幾何變形和市場角特性,必須鑒別短焦鏡...
德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后,1951年英國科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機械進行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標(biāo)題“時鐘以前的發(fā)條裝置”(Clockwork before the Clock)和“發(fā)條裝置的由來”(O...
光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗儀器,其比較大基片尺寸為6英寸,可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移,為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力:支持直徑6英...
按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為:直徑1in,32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是,由于幾何變形和市場角特性,必須鑒別短焦鏡...
按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為:直徑1in,32牙.in。鏡頭可以用在長度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是,由于幾何變形和市場角特性,必須鑒別短焦鏡...
2005年,X射線檢測提供了關(guān)鍵的線索——殘片內(nèi)部隱藏了數(shù)千個一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示,前板載有可知太陽和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護顯示系統(tǒng),并刻有大量銘文。2005年的掃描結(jié)果顯示,后...
所有實際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴展,這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時,半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜,電子通過它時也會產(chǎn)生一定量的電荷積累,這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子,產(chǎn)生偏移,而不導(dǎo)電的絕緣體(如玻璃片)肯定不能采用電子束曝光。還有...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時...
廣角鏡頭是一種焦距短于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于...
能強調(diào)前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調(diào)前景和突出遠近對比,是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調(diào)近大遠小的對比度。也就是說,用廣角鏡頭拍出來的照片,近的東西更大,遠的東西更小,從而讓人感到拉開了距離,在縱深方向上產(chǎn)生強烈的******效果。...
光學(xué)鏡頭是機器視覺系統(tǒng)中必不可少的部件,直接影響成像質(zhì)量的優(yōu)劣,影響算法的實現(xiàn)和效果。光學(xué)鏡頭從焦距上可分為短焦鏡頭、中焦鏡頭,長焦鏡頭;從視場大小分為廣角、標(biāo)準(zhǔn),遠攝鏡頭;從結(jié)構(gòu)上分為固定光圈定焦鏡頭,手動光圈定焦鏡頭,自動光圈定焦鏡頭,手動變焦鏡頭、自動變...
● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設(shè)有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機部件● 測量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測量范圍分類:1.微壓表(指儀表測量上限值小于0.1MPa的儀表)...
2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時,很容易遮擋鏡頭視角的周圍,使像場發(fā)暗,而這一情況,在取景時不容易察覺,但在照片上卻很明顯。因此,運用附件時, 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明,拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...
2006年時,萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型,引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪,這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...
EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個階段,其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月,EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn),但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...
主要技術(shù)指標(biāo):○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結(jié)構(gòu)特點○精密壓力表使用環(huán)境條件:5~40℃,相對濕度不大于80%,且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數(shù)無影響?!鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...
22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面,承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個或更多工位的沖模,材料隨壓力機行程逐次送進一工位,從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條(帶、卷)料側(cè)面切...
現(xiàn)代學(xué)者的共識是該機械是在希臘語使用區(qū)域制造,所有機械上組件的文字都是通用希臘語。一種假說認為,該機械是在希臘當(dāng)時的天文和機械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造,而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計,因為該機械采用了喜帕恰斯的月球運動理論。但由安提基特拉機械...
浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有:如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題;研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1.8的光刻膠的問題;研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料;以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...
兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復(fù)印工藝...
浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水,等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑,從而實現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示,國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項復(fù)雜工藝,林本堅團隊在浸...
對于新影像的進一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進一步發(fā)展,認為該儀器相當(dāng)于一個天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運動,還可顯示內(nèi)側(cè)行星(水星和金星)和外側(cè)行星(火星、木星和土星)的運動。萊特提出該機械的日月運動是基于喜帕恰斯的理論,五顆古典行星...
06:28已經(jīng)確認!2000年前的計算機,安提基特拉機械安提基特拉機械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學(xué)史和技術(shù)史**好奇又疑惑。數(shù)個個人或團隊研究已經(jīng)對其機制有更進一步了解。主要研究人員有:首先研究它的德國語言學(xué)家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...
使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點:一是視角小。所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以,能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...
使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點:一是視角小。所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以,能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...
四是,鏡頭的焦距越長,相機就必須把握得越穩(wěn)定,以避免影像模糊。經(jīng)驗準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時才能夠手持鏡頭進行拍攝,也稱為“安全快門”。也就是說,當(dāng)快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝,低于1/500秒時就不能手持50...