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輝光放電光譜/質(zhì)譜二者的區(qū)別及適用場景是什么呢?

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杭州博測材料科技有限公司2025-08-08

GD-OES:測量等離子體中激發(fā)態(tài)原子退激釋放的特征光學(xué)發(fā)射譜線(波長范圍170–800 nm),通過光電倍增管或CCD檢測。優(yōu)勢: 多元素同步分析(每秒數(shù)千譜線); 深度分辨率達(dá)納米級(濺射速率可控至0.1 nm/s); 適合鍍層/薄膜成分剖析(如汽車鋼板Zn-Al涂層)。 GD-MS:通過質(zhì)譜儀分離等離子體中的離子(質(zhì)量范圍1–300 amu),檢測質(zhì)量/電荷比(m/z)。優(yōu)勢: 超高靈敏度(ppt級檢測限); 同位素比值分析(如核材料23?U/23?U); 非金屬元素(C/N/O/S)精細(xì)定量。

杭州博測材料科技有限公司
杭州博測材料科技有限公司
簡介:杭州博測材料科技有限公司成立于2024年,專注材料的分析、檢測與研發(fā)提供高效的技術(shù)服務(wù)。
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其余 2 條回答

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    杭州博測材料科技有限公司 2025-08-09

    GD-OES優(yōu)先場景: 金屬鍍層厚度與成分分析(如家電彩涂板Zn/Mg含量梯度); 熱處理滲層(滲碳/氮化)濃度深度分布; 太陽能電池薄膜(CIGS)多層結(jié)構(gòu)解析。 GD-MS優(yōu)先場景: 高純材料痕量雜質(zhì)檢測(如半導(dǎo)體硅中B、P含量); 核燃料同位素豐度監(jiān)控; 環(huán)境顆粒物(PM2.5)重金屬溯源(Pb/Cd同位素指紋)。

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    杭州博測材料科技有限公司 2025-08-11

    光學(xué)譜線干擾(如Fe 271.9 nm與Al 271.7 nm重疊); 需標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)相對靈敏度因子(RSF); 對輕元素(H/He/Li)靈敏度低。 GD-MS局限: 多原子離子干擾(如??Ar1?O?干擾??Fe?); 儀器成本高(需高真空磁扇區(qū)質(zhì)譜); 分析速度慢于GD-OES。

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