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廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

5、刃壁刃壁是沖裁凹?？兹锌诘膫?cè)壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹?？兹斜诘拿總?cè)斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側(cè)壓塊反側(cè)壓塊是從工作面的另一側(cè)支持單向受力凸模的零件。9、導(dǎo)套導(dǎo)套是為上、下模座相對運動提供精密導(dǎo)向的管狀零件...

現(xiàn)代學(xué)者的共識是該機械是在希臘語使用區(qū)域制造，所有機械上組件的文字都是通用希臘語。一種假說認為，該機械是在希臘當(dāng)時的天文和機械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計，因為該機械采用了喜帕恰斯的月球運動理論。但由安提基特拉機械...

01:50光刻機為什么難造？看看他的黑科技！提高光刻技術(shù)分辨率的傳統(tǒng)方法是增大鏡頭的NA或縮 短 波 長，通 常 首 先 采 用 的 方 法 是 縮 短 波長。早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實 驗，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14...

世界三 大光刻機 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機 樣 機 都 是 在 原 有193nm干式光刻機的基礎(chǔ)上改進研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險。因為浸沒式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動不大，目前193...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機或模具上...

***，安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設(shè)定標(biāo)記特定恒星的升起。一般認為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標(biāo)記。在機械后面上方的轉(zhuǎn)盤是螺旋形，每次旋轉(zhuǎn)分成47個部分，**19年或235個朔望月的默冬章。該循環(huán)對于歷法修正很...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無需調(diào)焦，因為每一級光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時...

校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實驗室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場進行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

前方的轉(zhuǎn)盤可能至少有三個指針，***個指針指示日期，另外兩個則分別指示太陽和月球位置。月球的指針已被調(diào)整過**月球軌道的變化，因此相信太陽的指針也有過類似的調(diào)整，但相關(guān)機制的齒輪（如有）已經(jīng)不存。前方轉(zhuǎn)盤的第二個功能則是有一個月球的球形，做為月相指示。該機械上...

普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機械內(nèi)部結(jié)構(gòu)之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機械前方的轉(zhuǎn)盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤則顯示一個四年周期，并且和顯示周期為235個朔望月的默冬章相關(guān)，這和19個回歸...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對這一問題進行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對于物體的放大...

19.超負荷保護裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動作與功能測試調(diào)整.20.主馬達V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調(diào)整.21.離剎機構(gòu)各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調(diào)整及裝復(fù)調(diào)試.22.平衡器另部件拆卸分解,清潔檢查及裝復(fù)調(diào)試.C.每使用600...

主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時掩模與晶片間相對關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和...

1：可用機電式驅(qū)動器或液壓缸作為驅(qū)動動力。2：快速、精確地對卷材進行定位，使用的卷材寬度可達1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動桿的設(shè)計。4：耐用的結(jié)構(gòu)設(shè)計可長時間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對中器提高設(shè)置和卷材線性速度。6：...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實 驗，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14 nm的極端遠紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長達到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對該波長的光有強烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

顯影中的常見問題：a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。顯影液不足造成；b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側(cè)壁不垂直，由顯影時間不足造成；c、過度顯影（Over Development）?？?..

25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學(xué)習(xí)，掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能，熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護和控制裝置，不得任意拆動。3、檢查沖床各傳動、連接、潤滑等部位及防護保險裝置是否正常...

兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復(fù)印工藝...

f/光圈數(shù)和光圈大小調(diào)定在某一f/光圈數(shù)時的任何種類的鏡頭能夠透射過幾乎相同 光量的影象，因為光闌直徑直接與焦距相關(guān)，例如，一只80毫米的鏡頭在使用5毫米的光闌直徑時，光圈必定調(diào)節(jié)在f/16上。因此鏡頭的焦距在除以光闌直徑后，就得到相應(yīng)的f/光圈數(shù)。焦距標(biāo)記調(diào)...

EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。根據(jù)瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高的光刻分辨率。換個角度講，使用193i與EUV光刻機曝同一個...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時維護保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項目:1.滑潤油脂吐出油量及壓力檢知功能測試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測試檢查與必要調(diào)整....

01:50光刻機為什么難造？看看他的黑科技！提高光刻技術(shù)分辨率的傳統(tǒng)方法是增大鏡頭的NA或縮 短 波 長，通 常 首 先 采 用 的 方 法 是 縮 短 波長。早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實 驗，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14...

⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問題，而定焦鏡頭因為只需對一個焦段的成像進行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是，旁軸相機在廣角畸變上比單反相機有天生優(yōu)勢，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面，所以在實際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...

用長焦頭拍攝遠處景物，影像質(zhì)量受天氣影響較大，紫外線、塵埃和水汽都會使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此，用長焦頭拍攝遠處景物時，比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對象。此外，攝影時可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度；若是黑白攝影，還...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示，國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項復(fù)雜工藝，林本堅團隊在浸...